封装、MEMS及其他检测装备 Hawkeye-P-D/X
在晶圆或陶瓷表面上制造电路、芯片的工艺过程极其复杂,涉及多个工艺步骤,易产生各种缺陷,这些缺陷种类繁多、形态各异,尺寸又极小,人工检测缺陷精度差、效率低、标准不统一,给质量监控造成了极大困难。半导体图形晶圆缺陷检测设备,采用显微光学系统对晶圆表面成像,利用图像比对、人工智能算法等实现对各种缺陷的全自动识别与分类检测,可用于半导体生成厂家的多个工艺环节进行产品质量监控,可替代人工完成晶圆中大量缺陷的检测,在一定程度上避免人工检测存在的检测精度差、效率低、标准不统一等问题,此外,还可以提供大量的具有代表性的、可统计分析的缺陷检测数据,用于工艺制程分析,助力工艺改进,以达到最终保证封装产品的良率、降低生成成本的目的。 AOI-T、AOI-TC/P、AOI-X是针对于特种晶圆,例如MEMS晶圆(可能没有重复die)、陶瓷基底微电路、微型PCB等特殊检测要求,而研制的一系列定制化检测设备。本套设备采用多种倍率组合的透射、反射式显微系统,同时具备明暗场、偏光、光谱成像功能,最高可检测亚微米尺寸缺陷,可实现多种特殊要求的缺陷的检出、定位及统计。
功能概述:
1)用于检测: 固晶外观、键合引线、MEMS晶圆、特殊PCB、玻璃器件;
2)检测缺陷: 固晶缺陷、引线缺陷、图形异常表面损伤,脏污异物。
产品优势:
1)图纸比对:可用图纸比对(DB)模式进行缺陷检测;
2)定制开发:可定制检测成像系统,以及检测方案。
3)复杂结构检测:高精度3D(高度)检测,同时支持缺陷分类;
4)本地服务:核心部件支持国产,多地售后团队响应快。
技术参数:
项目 | 规格参数 |
晶圆尺寸 | ≤400mm x 400mm |
晶圆厚度 | 无限制 |
检测方式 | 灰度检测/彩色复检 |
可选成像方式 | 明场/暗场/紫光/红外/DIC/偏光 |
物镜可选倍率 | x1 、x2、x5、x10、x20、x50 |
最高检测精度 | 0.5um |
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