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晶圆前道制程检测装备Hawkeye-W-TPS

晶圆前道制程检测装备-Hawkeye-W-T/P/S

在半导体晶圆表面上制造芯片的工艺过程极其复杂,涉及多个工艺步骤,易产生各种缺陷,这些缺陷种类繁多、形态各异,尺寸又极小,人工检测缺陷精度差、效率低、标准不统一,给质量监控造成了极大困难。半导体图形晶圆缺陷检测设备,采用显微光学系统对晶圆表面成像,利用图像比对、人工智能算法等实现对各种缺陷的全自动识别与分类检测,可用于半导体生成厂家的大个工艺环节进行产品质量监控,可替代人工完成晶圆中大量缺陷的检测,在一定程度上避免人工检测存在的检测精度差、效率低、标准不统一等问题,此外,还可以提供大量的具有代表性的、可统计分析的缺陷检测数据,用于工艺制程分析,助力工艺改进,以达到最终保证封装产品的良率、降低生成成本的目的。

功能概述 产品优势 技术参数

功能概述:

1) 用于检测: 逻辑型晶圆、存储晶圆、功率晶圆、传感器晶圆、显示晶圆;

2) 检测缺陷: 图形异常、表面损伤、异物(残胶、颗粒)、色差。

产品优势:

1)高精度:支持1~100倍物镜,最高分辨率110nm/Pixe;

2)高效率:可实现35WPH(8英寸,x10)高速检测

3)检测能力强:覆盖晶圆制造中的各种缺陷,支持分类

4)本地服务:核心部件支持国产,多地售后团队响应快

技术参数:

项目规格参数
晶圆尺寸4、5、6、8、12英寸
晶圆厚度150~1500um

检测方式

灰度检测/彩色复检

可选成像方式明场/暗场/紫外/红外
最高检测精度

T: 1um           P:   0.5um         S:  0.2um

物镜可选倍率

x2、x5、x10、x20、x50、x100


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